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題 名 | 陰極電弧物理蒸鍍氮化鉻鍍膜熱擴散之研究 |
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作 者 | 吳政道; 楊玉森; 鐘宏碩; 游瑞坤; | 書刊名 | 金屬工業 |
卷 期 | 28:4 1994.07[民83.07] |
頁 次 | 頁79-81 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 陰極電弧物理蒸鍍; 氮化鉻; 熱擴散; Cathodic arcphysical vapor deposition; Chromium nitride; Thermal diffusion; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本研究以陰極電弧電漿物理蒸鍍(CAPD)製程,在JIS SKD61模具鋼上被覆氮化鉻,於大氣氣氛中加熱至300∼900℃維持90min後,觀察鍍層結構變化,表面氧化及界面碳、鉻擴散情形,並進一步在650℃,維持3∼30小時,探討擴散與時間關係。研究結果顯示,CrN鍍層在600℃表面才有氧元素出現,隨溫度增加至900℃,氧擴散深度相當緩慢。但在鍍層與底材界面處,碳從底材擴散進入CrN形成CrC深度越快。在600℃時,氧於鍍層表面形成Cr2O3後便不再繼續擴散,而碳取代CrN形成CrC隨時間增加而深入。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。