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| 題 名 | Photosensitizor Enhanced Main Chain Scission of Poly (methylphenylsilane) as a Self-Development Resist=以光敏劑增強主鏈斷鏈之聚甲基苯基矽烷做為自我顯像阻劑 |
|---|---|
| 作 者 | 龍文安; 何銘燁; 洪維民; | 書刊名 | Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering |
| 卷 期 | 16:1 1992.01[民81.01] |
| 頁 次 | 頁74-78 |
| 分類號 | 346.84 |
| 關鍵詞 | 主鏈斷鏈; 光敏劑; 自我顯像阻劑; 聚甲基苯基矽烷; |
| 語 文 | 英文(English) |