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| 題 名 | 美國商標法之域外適用效力--探討美國最高法院Abitron v. Hetronic案=The Extraterritorial Application of U.S. Trademark Law: An Analysis of the U.S. Supreme Court Case Abitron v. Hetronic |
|---|---|
| 作 者 | 陳柏全; | 書刊名 | 中華國際法與超國界法評論 |
| 卷 期 | 21:1 2025.06[民114.06] |
| 頁 次 | 頁43-87 |
| 分類號 | 587.3 |
| 關鍵詞 | 商標; 屬地主義; 域外適用效力; 兩步驟框架; 國際禮讓原則; Trademark; Principle of territoriality; Extraterritorial application of law; Two-step framework; Comity of nations; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |