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題 名 | 低溫固化感光絕緣層材料技術=Low Temperature Curing Photosensitive Insulation Material |
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作 者 | 蘇育央; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 449 2024.05[民113.05] |
頁 次 | 頁48-52 |
專 輯 | 圖案化材料技術專題 |
分類號 | 448.6 |
關鍵詞 | 感光聚醯亞胺; 低溫固化; 低介電常數材料; 低翹曲; 高解析度; Photosensitive polyimide; PSPI; Low-temperature curing; Dielectric constant material; Low warpage; High resolution; |
語 文 | 中文(Chinese) |