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題 名 | 揭露知識更要自我學習:標準必要專利的宣告與深化性學習=Revealing Knowledge while Self-Learning: The Declaration of Standard Essential Patents and Exploitative Learning |
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作 者 | 許經明; 黃韋菱; | 書刊名 | 中山管理評論 |
卷 期 | 32:1 2024.03[民113.03] |
頁 次 | 頁3-50 |
分類號 | 440.6 |
關鍵詞 | 選擇性揭露; 標準必要專利; 排他性專利; 深化性學習; 標準制定組織; Selective revealing; Standard essential patents; Proprietary patents; Exploitative learning; Standard-setting organization; |
語 文 | 中文(Chinese) |