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題名 | 控制氧氣流量探討氧化鋅錫薄膜電晶體之研究=Controlling the Flow of Oxygen to Explore the Study of Zinc Tin Oxide Thin Film Transistors |
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作者姓名(中文) | 古凡; 許世昌; | 書刊名 | International Journal of Science and Engineering |
卷期 | 13:1 2023.04[民112.04] |
頁次 | 頁53-68 |
分類號 | 448.653 |
關鍵詞 | 氧化鋅錫; 二氧化鉿; 絕緣層; 薄膜電晶體; 射頻濺鍍; 通道層; ZTO; HFO₂; RF sputtering; Zinc tin oxide; Hafnium dioxide; Thin film transistors; |
語文 | 中文(Chinese) |