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題 名 | 半導體高碳當量溫室氣體N₂O處理技術介紹與展望=N₂O Abatement Technology in the Semiconductor Industry |
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作 者 | 謝文安; 李壽南; 鄭瑞翔; 孫嘉呈; 張顓麟; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 431 2022.11[民111.11] |
頁 次 | 頁47-54 |
專 輯 | 產業淨零碳排轉型特刊 |
分類號 | 445.9 |
關鍵詞 | 淨零碳排; N₂O處理技術; 溫室效應潛值; 尾氣處理設備; Net zero carbon emissions; N₂O abatement technology; Global warming potential values; GWP values; Local scrubber; |
語 文 | 中文(Chinese) |