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題名 | 原子層沉積法與原子層蝕刻法在光電半導體之應用=Applications of Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching in Optoelectronic and Semiconductors |
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作者 | 陳邦旭; |
期刊 | 機械工業 |
出版日期 | 20220600 |
卷期 | 471 2022.06[民111.06] |
頁次 | 頁40-50 |
分類號 | 448.533 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 原子層沉積法; 原子層蝕刻法; 光電半導體; 半導體製程; Atomic layer deposition; Atomic layer etching; Optoelectronics and semiconductors; Semiconductor process; |