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題 名 | 原子層沉積法與原子層蝕刻法在光電半導體之應用=Applications of Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching in Optoelectronic and Semiconductors |
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作 者 | 陳邦旭; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 471 2022.06[民111.06] |
頁 次 | 頁40-50 |
專 輯 | 半導體與光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.533 |
關鍵詞 | 原子層沉積法; 原子層蝕刻法; 光電半導體; 半導體製程; Atomic layer deposition; Atomic layer etching; Optoelectronics and semiconductors; Semiconductor process; |
語 文 | 中文(Chinese) |