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題 名 | 數位低介電損耗重分佈層材料技術=Low Dielectric Loss RDL Material for Digital Lithography Technology |
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作 者 | 蘇育央; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 430 2022.10[民111.10] |
頁 次 | 頁72-78 |
專 輯 | 數位圖案化技術專題 |
分類號 | 440.341 |
關鍵詞 | 感光性聚醯亞胺; 高解析; 介電損耗; 重組層; 重分佈層; 數位曝光技術; Photosensitive polyimide; PSPI; High resolution; Dielectric loss; Redistribution layer; RDL; Digital lithography technology; DLT; |
語 文 | 中文(Chinese) |