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題名 | 淺談兩造對審架構下專利爭議案件之更正制度--以美國及德國制度為鑑=Study on the Post-grant Amendment under Patent Invalidation with Inter Partes Proceeding--Refer to the US and Germany System |
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作者 | 陳盈竹; 吳韶淳; 林希彥; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
卷期 | 279 2022.03[民111.03] |
頁次 | 頁6-26 |
專輯 | 更正及更正再抗辯實務研析 |
分類號 | 440.652 |
關鍵詞 | 更正制度; 爭議程序; 兩造對審; 專利法修正條文; Post-grant amendment; Invalidation; Inter partes proceeding; Amendment of Patent Act; |
語文 | 中文(Chinese) |