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題 名 | 酚醛樹脂材料發展與IC製程光阻應用=Development of Phenolic Resin and Application in IC Photoresist |
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作 者 | 温俊祥; 溫俊祥; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 405 2020.09[民109.09] |
頁 次 | 頁162-171 |
分類號 | 467.4 |
關鍵詞 | 酚醛樹脂; 正型光阻; 萘醌重氮; 偶氮鹽類; 微影成像; Phenolic resin; Positive photoresist; Naphthoquinone diazide; DNQ; Diazonium salts; Lithography; |
語 文 | 中文(Chinese) |