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| 題 名 | 設計專利圖式明確且充分揭露之判斷=Study on Disclosure and Enablement Requirements of Design Patent Drawings |
|---|---|
| 作 者 | 劉信邦; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
| 卷 期 | 254 2020.02[民109.02] |
| 頁 次 | 頁39-62 |
| 專 輯 | 2019年國際間設計專利審查研析 |
| 分類號 | 440.6 |
| 關鍵詞 | 設計專利; 充分揭露; 據以實現; Design patent; Disclosure; Enablement requirements; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |