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題 名 | 直流磁控濺鍍機檔板最佳化分析=Optimization of Blocking Plate for Magnetron Sputtering Machine |
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作 者 | 陳文立; 周煥銘; 陳長仁; 鄭溪松; | 書刊名 | 燃燒季刊 |
卷 期 | 19:4=71 2010.11[民99.11] |
頁 次 | 頁53-66 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 直流濺鍍機; 沉積速率; 最佳化; DC magnetron sputtering machine; Deposition rate; Optimization method; |
語 文 | 中文(Chinese) |