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題 名 | 研析虛線對解釋申請專利之設計的影響--以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心=Broken Lines in Claim Construction of a Design Patent: In View of Ex Parte Reexamination of Apple's iPhone |
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作 者 | 葉哲維; 徐銘夆; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
卷 期 | 221 2017.05[民106.05] |
頁 次 | 頁41-70 |
分類號 | 440.652 |
關鍵詞 | 設計專利; 虛線; 邊界線; 解釋申請專利範圍; 新事項; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 2011 年間,美商蘋果電腦公司以其著名的智慧型手機之相關專利向韓國三星 電子公司發動侵權訴訟,雖然三星公司在民事判決中被認定侵權,但其同時透過 行政救濟程序,向美國專利商標局提出單方再審查,2015 年8 月美國專利商標 局首先針對一件設計專利單方再審查案作出專利無效之決定。本文就該案進行探 討,分析內容包括部分設計「解釋申請專利範圍」以及「判斷是否導入新事項」 等兩項議題,最末筆者提出個人淺見,認為部分設計中之虛線不論係作為界定內 部邊界或外部邊界,亦或係用於表示環境,其所呈現的外觀不應屬於申請專利之 設計的內容;而有關導入新事項的判斷,應係判斷後申請案的設計是否已揭露於 先申請案所揭露的內容中,而非以後申請案所主張的範圍是否與先申請案的範圍 相同為判斷準則,否則將失去了「先申請原則」下鼓勵申請人就其已完成之創作 儘早提出申請之意義。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。