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題名 | 解析美國設計專利圖式修正之審查基準與政策=The Analysis on New Examination Policy for Design Patent Drawing Amendments of USPTO |
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作者姓名(中文) | 葉雪美; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
卷期 | 204 2015.12[民104.12] |
頁次 | 頁50-78 |
分類號 | 440.652 |
關鍵詞 | 設計專利; 圖式修正; 書面說明要件; 新事項; 實線; 虛線; 揭露但未 敘述; 揭露且敘述; 通常技藝水平的人士; 可合理得知; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 美國專利業界經常在設計專利申請過程中將圖式的部分實線修改為虛線,藉以克服 USPTO的核駁理由取得設計專利,或是擴大原始設計的權利主張範圍,長久以來,這種作法在 USPTO內部是有爭議的。CAFC在 In re Owens案件的決定除了解決設計專利圖式中邊界線的問題外,也解決 USPTO在設計專利申請案圖式修正一些久懸未決的問題。 2013年 4月,USPTO發布設計專利新的審查政策,強調圖式的修正必須符合專利法第 112條(a)款的書面說明要件。 2013年 1月我國實施新的設計專利制度開放部分設計,現行設計專利制度中對於圖式修正之規定及實務作法,是允許申請人在修正過程中將圖式的實線改為虛線或是虛線變更為實線,本質上,這種圖式修正手段是不合理且不可預期的。USPTO新修訂的圖式修正審查政策,縮減設計專利圖式可作修正之事項,降低設計專利保護範圍的不確定性及無法預期性,他山之石可以攻錯,本文藉由實務案例介紹 USPTO的圖式修正審查規則,希望能提供我國在修訂設計專利審查基準可為參考之用。 |
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