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題名 | 解析日、韓與我國圖像設計審查實務--以一設計一申請原則為中心=A Comparative Analysis of the Examination Guidelines for Graphic Image Design in Japan, South Korea and Taiwan--Focus on One Application per Design Rules |
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作者 | 徐銘夆; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
卷期 | 234 2018.06[民107.06] |
頁次 | 頁37-76 |
專輯 | 國際間設計專利發展趨勢 |
分類號 | 440.6 |
關鍵詞 | 設計專利; 圖像設計; 一設計一申請; 審查基準; |
語文 | 中文(Chinese) |