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題 名 | 真空製程在透明氧化物薄膜的開發應用--複合介電層/金屬層堆疊作為透明導電電極之應用=Vacuum Process in Transparent Conductive Oxide Development--Composite Dielectric& Metal Stacking Layers for Transparent Conductive Electrode Application |
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作 者 | 陳邦旭; 鍾朝安; | 書刊名 | 科儀新知 |
卷 期 | 210 2017.03[民106.03] |
頁 次 | 頁58-67 |
專 輯 | 真空技術專題 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 透明導電電極; 複合介電層/金屬層堆疊; 透明氧化物薄膜; 真空製程; |
語 文 | 中文(Chinese) |