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題名 | 專利侵害鑑定要點之修訂--設計篇=Amendment of Determination of Patent Infringement Guidelines--Design Patent |
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作者姓名(中文) | 葉哲維; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
卷期 | 207 2016.03[民105.03] |
頁次 | 頁55-86 |
專輯 | 專利侵害鑑定要點之修訂 |
分類號 | 440.6 |
關鍵詞 | 設計專利; 新式樣; 侵權; 侵害鑑定; 三方比對; 新穎特徵; 埃及女神案; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 現階段有關專利之侵權判斷或侵害鑑定,法院或實務界主要是參考民國93 年經濟部智慧財產局所完成的「專利侵害鑑定要點(草案)」。時隔十年後,智 慧財產局於民國104 年就前述要點進行全面修正,並於2016 年完成「專利侵權 判斷要點」(尚未發布),其中有關設計專利的部分,修正重點包括修正設計專 利之侵權判斷流程、刪除「是否包含新穎特徵」之判斷步驟、釐清「確定設計專 利權範圍」之內涵、調整侵權判斷主體及導入「三方比對」的判斷方式,並增加 民國102 年施行之專利法所擴大保護的部分設計、圖像設計、成組設計及衍生設 計等其他設計的侵權判斷內容。除前述修正重點外,本文簡要說明修正緣由及過 程中所參考的判決,期望有助於各界理解設計專利的侵權分析、判斷,以利於日 後專利侵權爭訟之進行。 |
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