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題名 | 離子佈植摻雜物及鋅覆蓋層對鎳化矽熱穩定性影響之改善=Improve Thermal Stability Behavior of Nickel Silicide with Ion Implantation Species and Zn Capping Layer |
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作者 | 施子琅; 吳章鵬; 陳聖文; 吳騏廷; 李文熙; |
期刊 | 奈米通訊 |
出版日期 | 20120300 |
卷期 | 19:1 2012.03[民101.03] |
頁次 | 頁23-28 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 氧化鋅介層; 矽化鎳; 離子佈植; 聚集; Zn interlayer; NiSi; Ions implant; Agglomeration; |