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題名 | 脈衝電壓對電漿化學氣相沉積法蒸鍍DLC薄膜於氮氧化處理AISI H13工具鋼之影響=Effects of Pulsed Voltage on the Plasma CVD Coating DLC Films of the Oxynitriding-treated AISI H13 Tool Steel |
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作者姓名(中文) | 張世賢; 唐德謙; 李俊毅; 劉沖明; 吳坤齡; | 書刊名 | 鑛冶 |
卷期 | 56:4=220 2012.12[民101.12] |
頁次 | 頁117-122 |
分類號 | 472.15 |
關鍵詞 | 類鑽碳膜; 直流脈衝電漿化學沉積法; 氮氧化處理; 拉曼光譜; DLC; DC-pulsed plasma CVD; Oxynitriding treatment; Raman spectroscopy; |
語文 | 中文(Chinese) |