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題 名 | 電磁模擬應用於超高頻化學氣相沈積系統之射頻電極板實務 |
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作 者 | 陳威宇; 洪政源; 吳奕達; 翁敏航; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷 期 | 18:11=208 2012.11[民101.11] |
頁 次 | 頁146-153 |
分類號 | 448.59 |
關鍵詞 | 超高頻; 駐波; 上電極; PECVD; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 電漿增強化學氣相沉積系統(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)是光電製程中相當重要的設備,目前應用大致以13.56 MHz之操作頻率為主。射頻電極板是化學氣相沉積系統中點燃電漿的關鍵元件。近年來,為加快鍍膜速率,通常提高輸入功率的電漿激發頻率。然而若將饋入的功率頻率提升至VHF(30~100 MHz)以上時,在鍍膜時將會產生駐波效應(standing wave effect),造成電極板上電位分佈不均,進而造成電漿分佈不均勻。本文中,我們介紹以全波模擬軟體HFSS建立G2.5PECVD之腔體模型,同時考慮氣體擴散槽孔的設計,在不同頻率與不同功率下,探討槽孔的分佈對於射頻電極板上單位電場分佈的影響。藉由高頻模擬軟體之實務,解決超高頻下(60 MHz)所產生的駐波效應,達到電漿均勻化之目的。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。