頁籤選單縮合
| 題 名 | 圖案化藍寶石基板之技術與發展 |
|---|---|
| 作 者 | 張哲瑋; 謝易達; 顏誌男; 李永春; | 書刊名 | 電子月刊 |
| 卷 期 | 18:11=208 2012.11[民101.11] |
| 頁 次 | 頁77-99 |
| 專 輯 | 半導體光電技術 |
| 分類號 | 448.552 |
| 關鍵詞 | 圖案化藍寶石基板; 金屬嵌入式石英光罩; 金屬接觸轉印微影製程; 接觸式微影; 次微米結構; 氮化鎵; 發光二極體; 黃光微影; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |
| 中文摘要 | 圖案化藍寶石基板(Patterned Sapphire Substrate, PSS)已廣泛應用於高亮度的氮化鎵(GaN)藍光LED,是LED產業中不可或缺的重要基板產品。目前台灣各LED公司自行生產或向外購買的商用PSS,圖案結構約在2~3 mm,而且絕大多數是先以黃光微影製程製作光阻微結構,再配合感應耦合電漿離子蝕刻系統(Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP)的乾式蝕刻製程完成。此一製程方法的缺點為很難或必須以較昂貴的製程方式,才能達到具次微米特徵與高深寬比結構的PSS。相對於黃光微影製程,本文開發金屬接觸轉印微影製程(Metal Contact-Printing Photo-Lithography, MCPP)是一種結合新型的奈米金屬轉印與傳統黃光微影的創新混合技術,配合簡單的設備與方式,即能達到快速、大面積(4"~6" wafer)與低成本地製作次微米、小線寬奈米等級(65 nm)的高深寬比圖型與結構轉移;而軟性模仁的使用,更一舉解決壓印模具與壓印良率的問題。從奈米金屬轉印製程裡延伸開發出快速製作光罩的技術,目前已做出金屬嵌入式石英光罩與軟性基材光罩,這些光罩皆可應用於次微米PSS製程,實驗成果已成功在2"與4"藍寶石基板上製作圓錐狀次微米PSS結構,線寬可達500 nm。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。