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題 名 | 淺介有機金屬化學氣相沉積技術近期發展 |
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作 者 | 李鎮宇; 藍宇彬; 林大為; 李佳祐; 邱鏡學; 郭浩中; 洪瑞華; 紀國鐘; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷 期 | 18:11=208 2012.11[民101.11] |
頁 次 | 頁62-76 |
專 輯 | 半導體光電技術 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 有機金屬化學氣相沉積; 白光LED; 氮化鎵; 發光二極體; 照明; LED; GaN; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 近年來我國積極發展Light-emitting diodes(LED)相關技術,眾所皆知,有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)磊晶機台是發展LED技術相當重要且不可或缺的設備,另外,就資源及環境條件來考慮台灣未來的半導體高科技產業發展,我們已無法在化合物半導體的晶圓製造方面取得先機,另一方面,台灣國內已有超過300台以上的MOCVD磊晶系統投入生產。因此,若能對於磊晶機台技術之充分了解,並進行研究開發,不僅具有科技的前瞻性,對於先端元件材料成本的降低,以及應付日益高漲的環保問題上亦具有相當大的優勢。因此,在本篇文章將深入淺出的介紹磊晶技術的基本原理與MOCVD機台的近期發展。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。