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科儀新知
28:2=154 民95.10
頁47-58
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題 名
新型半導體全氟化物廢氣電漿處理技術=New Plasma Treatment for Semiconductor Waste PFC Gases
作 者
陳永枝
;
陳孝輝
;
書刊名
科儀新知
卷 期
28:2=154 民95.10
頁 次
頁47-58
分類號
445.63
關鍵詞
半導體
;
全氟化物
;
溫室氣體
;
PFCs
;
語 文
中文(Chinese)
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