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題名 | Analysis of Structure Fabrication on Near Field Photolithography with Experimental Verification=近場光學微影結構加工模式與實驗驗證 |
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作者姓名(中文) | 楊慶彬; 江新祿; 黃仁清; 陳健忠; | 書刊名 | 中國機械工程學刊 |
卷期 | 32:5 2011.10[民100.10] |
頁次 | 頁371-379 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 近場光學微影; 曝光能量; 微影加工; Near field photolithography; Structure; Exposure energy density; Full-width at half maximum; FWHM; |
語文 | 英文(English) |