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題名 | X光光電子譜儀與橢圓偏振儀分析非晶態氮氧化鈦薄膜鍵結與能隙變化之關係=Relationship between Energy Gap and Chemical Bonding in Amorphous Titanium Oxynitride Films Investigated by X-ray Photoelectron Spectroscope and Ellipsometer |
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作者姓名(中文) | 林永鑫; 黃文駿; 涂俊瑋; 王威禮; 陳譽云; 徐進成; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 24:2 2011.06[民100.06] |
頁次 | 頁76-81 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 離子束濺鍍系統; 氮氧化鈦薄膜; 鍵結; 能隙; Amorphous titanium oxynitride films; Ion beam sputtering system; NH₃; Tauc-Lorentz model; Bonding; Energy gap; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 離子束濺鍍系統通入反應氣體 NH3/O2 沉積而成的非晶態氮氧化鈦薄膜中,氮形成幾種複雜的鍵結,分別使氮的價電子數帶 N3-、N2-、N1-、N1+ 與 N2+。價電子數的發生是隨著 NH3/O2 比例的增減而有規律的發生在 N1s 圖譜中。此外氮氧化鈦薄膜的能隙同時受到 N3- 的鍵結比例改變而影響。配合橢圓偏振量測,非晶態薄膜在此研究中能有效的使用 Tauc-Lorentz model 分析其光學常數與能隙的變化。最後在此研究也發現在 400 的基板溫度下以 NH3/O2 氣體製程,NHx 與 OH 相關鍵結並不會吸附或參與薄膜的反應。 |
英文摘要 | Amorphous Titanium oxynitride films were deposited by ion beam sputtering system using NH3/O2 as the reaction gas. Simultaneously, NHx and OH from the reaction gas were not absorbed on/in the fi lms when the substrate temperature was 400 . In this study we observed fi ve different bonding states of N3-, N2-, N1-, N+, and N2+ analyzed from N1s spectra measured by X-ray photoelectron spectroscope. As a result, the relative concentration of N3- bonding was related to the energy gap calculated by Tauc-Lorentz model with fi tting the ellipsometric parameters of Ψ and Δ of the amorphous films. |
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