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題 名 | 技術授權策略與政府研發補貼政策=Licensing Strategy and R&D Subsidy |
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作 者 | 李仁耀; | 書刊名 | 亞太經濟管理評論 |
卷 期 | 14:2 2011.03[民100.03] |
頁 次 | 頁71-82 |
分類號 | 408.8、408.8 |
關鍵詞 | 技術授權; 研究發展; 專利權; Licensing; R&D; Patent; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文在一家本國廠商與一家外國廠商在本國進行數量競爭的雙占市場架構下,探討研發補貼對本國研發廠商(專利權人)的研發水準與技術授權策略選擇的影響。本文獲得的主要結論為:(1)當本國廠商研發效率較高時,定額權利金授權為其最適策略;若其研發效率不佳時,將選擇單位權利金授權。(2)當研發效率介於5/3<γ<1.90,定額權利金授權是研發廠商的最適選擇也是社會最適選擇;當研發效率介於1.98<γ<3.93,單位權利金授權是研發廠商的最適選擇也是社會最適選擇。其主要原因是本國研發廠商(專利權人)利潤以及消費者剩餘存在抵換關係,研發效率水準將扮演重要的角色,此一結論,與過去Wang (1998, 2002)以及Muto (1993)的看法並不相同。 |
英文摘要 | In this paper, we analyses the optimal licensing strategies and R&D subsidy in an endogenous R&D model. Two conclusions are: (1) When the R&D efficiency is high, the fixed-fee is the optimal licensing strategy; otherwise, the royalty is the optimal licensing strategy. (2) When 5/3<γ<1.90, the fixed-fee is social optimal and the patentee's optimal strategy; when 1.98<γ<3.93, the royalty is social optimal and the patentee's optimal strategy. Our results are different from the finding of Wang (1998, 2002) and Muto (1993). |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。