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題名 | 以原子層沈積法製作高品質氧化鋅薄膜及其元件之應用=High Quality ZnO Films Prepared by Atomic Layer Deposition and its Application in Device Construction |
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作者 | 陳冠宇; 李欣縈; 李清庭; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 23:2 2010.06[民99.06] |
頁次 | 頁50-55 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 原子層沈積法; 透明薄膜電晶體; 氧化鋅; Atomic layer deposition; Transparence thin film transistors; ZnO; |
語文 | 中文(Chinese) |