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來源資料
真空科技
20:1 2007.10[民96.10]
頁36-43
電機工程
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電燈之特殊應用
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題 名
光釋放能譜臨場監控反應性濺鍍超親水氧化鈦薄膜之特性分析
作 者
李健志
;
魏敏芝
;
牛寰
;
陳錦山
;
書刊名
真空科技
卷 期
20:1 2007.10[民96.10]
頁 次
頁36-43
分類號
448.59
關鍵詞
超高真空磁控濺鍍
;
二氧化鈦
;
一氧化鈦
;
光學釋放能譜分析儀
;
金紅石
;
銳鈦礦
;
X光繞射
;
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;
光誘發超親水性
;
語 文
中文(Chinese)
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