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題名 | 電化學沉積二硒化銅銦鎵薄膜研究=A Study of Cu (InGa)Se₂ Thin Film by Electrodeposition |
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作 者 | 葉文進; 葉翳民; | 書刊名 | 吳鳳學報 |
卷期 | 16 2008.12[民97.12] |
頁次 | 頁305-312 |
分類號 | 468.1 |
關鍵詞 | 電沉積; 化學計量比; 二硒化銅銦鎵; 退火熱處理; Electrodeposition; Stoichiometry; CIGS; Anneal treatment; |
語文 | 中文(Chinese) |