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來源資料
電子月刊
14:9=158 2008.09[民97.09]
頁171-181
電機工程
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電燈廠
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題名
次世代微影技術發展現況與展望:極紫外光光罩檢測技術之現況與展望
作者
蔡坤諭
;
書刊名
電子月刊
卷期
14:9=158 2008.09[民97.09]
頁次
頁171-181
專輯
IC製程技術專輯
分類號
448.57
關鍵詞
極紫外光微影
;
光罩基底片
;
多層反射膜
;
缺陷檢測
;
反射儀
;
語文
中文(Chinese)
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