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題 名 | XRD Analysis of PZT Thin Films on Si Substrates by Rapid Thermal Annealing Processes=退火處理鋯鈦酸鉛薄膜於矽基板之X光繞射分析 |
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作 者 | 張忠誠; 黃嘉宏; | 書刊名 | 材料科學 |
卷 期 | 31:4 1999.12[民88.12] |
頁 次 | 頁220-225 |
分類號 | 440.39 |
關鍵詞 | 鋯鈦酸鉛薄膜; X光繞射; 半高寬; 矽基板; 退火; PZT; Thin film; X-ray diffraction; Full width & half maximum; Si substrate; Annealing; |
語 文 | 英文(English) |