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題 名 | 原子層沉積技術發展及其機能膜應用=The Development of Atomic Layer Deposition and Its Application on Functional Films |
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作 者 | 鄞暉恩; 龔丹誠; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 337 2015.01[民104.01] |
頁 次 | 頁67-77 |
專 輯 | 高分子機能膜精密加工與應用技術專題 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 原子層沉積; 半導體; 高阻氣層; 階梯覆蓋率; 軟性電子; Atomic layer deposition; ALD; Semiconductor; High barrier; Step coverage; Flexible electronics; |
語 文 | 中文(Chinese) |