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題名 | 園區高臭氧濃度事件相關研究解析 |
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作者姓名(中文) | 莊子儀; 王斌豫; 楊博堯; 鄭圭菁; | 書刊名 | 工業污染防治 |
卷期 | 25:3=99 民95.07 |
頁次 | 頁21-37 |
分類號 | 445.63 |
關鍵詞 | 空氣品質標準; 容許濃度; 排放標準; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 針對O₃氣體,考量對人體健康或其他動植物的影響,各個國家訂有空氣品質標準及勞工作業環境容許濃度標準,我國環保署亦設有各縣市空氣品質即時監測站資料供參考。由於O₃被視為二次污染物,並未訂定排放管道之排放標準,但針對特定使用臭氧的半導體廠或光電廠而言,若是處理不當將使臭氧成為一次污染物直接排放,對週遭環境及工作環境中人們健康產生長期傷害。 一般半導體廠於製程中即使用到臭氧,對於高濃度臭氧事件更不能置身事外,遂於環境中、工作區、排放管道等設有臭氧濃度監測儀器,以監控臭氧濃度,防止異常洩漏事件及危害人體健康。近期觀察環境高臭氧事件次數偏多,故特別針對臭氧事件作整體評估調查,提供業界參考。 |
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