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題 名 | 應用電化學原子力顯微鏡即時量測銅材料在純水與外加偏壓下奈米級表面形貌變化之研究=The In-situ Nonsocial Surface Morphologies Evaluation of Pure Copper Under DI Water and Bias by Electrochemical Atomic Force Microscope |
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作 者 | 黃仁清; 李志偉; 許良瑋; | 書刊名 | 東南學報 |
卷 期 | 28 2005.06[民94.06] |
頁 次 | 頁223-232 |
分類號 | 440.39 |
關鍵詞 | 電化學原子力顯微鏡; 表面形貌; 銅; 奈米; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文以電化學原子力顯微鏡(EC-AFM)在Contact Mode模式對純銅試片進行電化學實驗,以探討純銅在去離子水(DI water)與外加電壓的環境的奈米級表面形貌的變化行為。經掃描後發現之銅塊材表面形貌在去離子與外加偏壓作用下會產生變化,實驗剛開始時在掃描區域的表面會有平坦化的趨勢,表示矽探針對純銅表面產生奈米等級的切削作用而將表面突出的部分刮平。且在經3285秒的掃描時間後,探針會在純銅表面加工出一清晰可見的凹洞。而在探針未持續掃描的區域,然後隨著作用時間加長,純銅表面會因氧化而使純銅表面的數百奈米大小的突起部分氧化而變大至約為將近1000奈米。本文亦發現在EC-AFM實驗時,探針在有水溶液環境中施予偏壓時,探針的背面也同時被腐蝕使探針的反射率變低,易造成在表面形貌量測上之誤差。而掃描時探針的純化也是誤差的來源。 |
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