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題 名 | 以沉降法配合活性炭吸附處理半導體產業高濃度含砷廢水=Treatment of Semiconductor Arsenic-containing Waste Water by Calcium Precipitation and Activated Carbon Adsorption |
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作 者 | 邱誌忠; 陳秀卿; 曾昭桓; | 書刊名 | 興大工程學刊 |
卷 期 | 15:3 2004.11[民93.11] |
頁 次 | 頁197-207 |
分類號 | 445.463 |
關鍵詞 | 半導體業; 含砷廢水; 鈣鹽沉降; 活性炭吸附; Semiconductor industry; Arsenic-containing waste water; Calcium precipitation; Activated carbon adsorption; |
語 文 | 中文(Chinese) |