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題名 | 奈米轉印設備之專利分析 |
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作者姓名(中文) | 鍾永鎮; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 243 2003.06[民92.06] |
頁次 | 頁163-168 |
專輯 | 奈米機械技術專輯 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 奈米轉印成形技術; 均勻施壓; 平行度; 專利分析; Nanoimprint lithography; NIL; Uniform pressing; Parallelism; Patent analysis; |
語文 | 中文(Chinese) |