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題名 | 奈米轉印設備之專利分析= |
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作者 | 鍾永鎮; |
期刊 | 機械工業 |
出版日期 | 200306 |
卷期 | 243 2003.06[民92.06] |
頁次 | 頁163-168 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 奈米轉印成形技術; 均勻施壓; 平行度; 專利分析; Nanoimprint lithography; NIL; Uniform pressing; Parallelism; Patent analysis; |