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題名 | 不同熱處理溫度下摻雜鎂在鈦酸鍶鋇薄膜之結構性質研究 |
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作者姓名(中文) | 劉裕永; | 書刊名 | 建國學報 |
卷期 | 21 2002.07[民91.07] |
頁次 | 頁469-475 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 射頻磁控式濺鍍法; 鈦酸鍶鋇薄膜; 結晶性; 熱處理溫度; 介電常數; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本實驗是利用"射頻磁控式濺鍍法(RF Magnetron Sputtering)"製備鈦酸鍶鋇薄膜(Ba0.5Sr0.5TiO3)並摻雜1.86mol%鎂(Mg)於該薄膜鞏,其目的為了瞭解在不同的熱處理溫度下其微觀結構對介電性質與漏電流之影響。在本實驗中發現在800℃熱處理溫度下,其介電常數與漏電流密度分別為439與1.36×10-5(A/cm2),而在低溫熱處理溫度600℃下分別為214與2.68×10-6(A/cm2)。因此選擇適當的製成條件,可以得到良好結晶性的薄膜。再者,由本實驗得之鈦酸鍶鋇薄摻雜微量的銓離子其漏電傳導機制主要是以Schottky Emission為主,並且由數值分析法得之其相對介電常數εr=4.56。 |
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