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題名 | 入口流速對MOCVD反應室內氣體分佈的影響=The Influence of flow Rate on Gas Distribution in MOCVD Chamber |
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作者 | 林惠娟; 柳逸斌; Lin, H. J.; Liu, I. B.; |
期刊 | 材料科學與工程 |
出版日期 | 200212 |
卷期 | 34:4 2002.12[民91.12] |
頁次 | 頁255-260 |
分類號 | 440.34 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 銅薄膜; 數值模擬; 有機金屬化學氣相沉積; Copper thin film; Simulation; MOCVD; |