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題名 | 單晶片旋轉蝕刻清洗設備系統軟體開發 |
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作者 | 陳家銘; | 書刊名 | 機械工程 |
卷期 | 242 2002.06[民91.06] |
頁次 | 頁56-66 |
專輯 | 半導體製程設備 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 室溫清洗; 晶圓個別處理; 單一化介面; Room temperature cleaning; Process by wafer; Unified interface; |
語文 | 中文(Chinese) |