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題 名 | 使用非晶質(Amorphous)ITO中介層(Buffer Layer)以改善在塑膠基板上濺鍍ITO薄膜之品質 |
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作 者 | 鄭淵升; 黃振昌; 林宏彝; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 221 2001.08[民90.08] |
頁 次 | 頁112-117 |
專 輯 | 奈米工程及微機電系統技術專輯 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 塑膠基板; 銦錫氧化物; 交流磁控濺鍍; Plastic substrate; Indium tin oxide; RF magnetron sputtering; |
語 文 | 中文(Chinese) |