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題 名 | 157奈米光阻劑之最新發展=Development of 157nm Photoresists |
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作 者 | 簡宗信; | 書刊名 | 化工資訊月刊 |
卷 期 | 15:4 2001.04[民90.04] |
頁 次 | 頁48-52 |
分類號 | 467.4 |
關鍵詞 | 157奈米光阻劑; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 氟氣準分子雷射蝕刻技術目前正快速地在發展,其中對光阻的設計與 開發更具挑戰性,因為大部份的有機物在此光區都不夠透明。在理想狀況下,假 設光阻的OD值(Optical Density)為0.4,則現今所有市售光阻在波長157奈米 條件下,其光阻塗膜厚度將小於90奈米或更薄。在Sematech的主導下,從1998 年後期開始已有不少適合157奈米的聚合物被發現,新的樹脂架構需在短時間內 開發出來,方可支援2003年對100奈米技術節點的需求。本文除了簡介157奈 米光阻劑設計的基本概念,也將介紹國外知名研究機構近期的發展。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。