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來源資料
機械工業
210 2000.09[民89.09]
頁191-207
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題名
晶圓清洗製程與單晶片清洗技術介紹=
作者
董福慶
;
期刊
機械工業
出版日期
200009
卷期
210 2000.09[民89.09]
頁次
頁191-207
分類號
448.552
語文
chi
關鍵詞
濕式清洗
;
乾式清洗
;
單晶片旋轉清洗設備
;
Wet clean
;
Dry clean
;
Single wafer spin processor
;
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