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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 1999.06[民88.06]
- 頁 次:
頁75-86
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1 1997.06[民86.06]
- 頁 次:
頁1-38
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題 名:
AZO薄膜濺鍍技術與應用:Magnetron Sputtering Technology for AZO Thin Film Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
281 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁42-48
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
43:5 2013.10 [民102.10]
- 頁 次:
頁841-850
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁82-91
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2 2013.04[民102.04]
- 頁 次:
頁21-31
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
403 2016.10[民105.10]
- 頁 次:
頁51-56
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
387 2015.06[民104.06]
- 頁 次:
頁27-35
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題 名:
電漿製程設備之電控系統技術:Electronic Control System Technology of Plasma Processing Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
387 2015.06[民104.06]
- 頁 次:
頁107-119
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
50:1 2011.03[民100.03]
- 頁 次:
頁65-78
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
40:6 2010.12[民99.12]
- 頁 次:
頁771-782
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題 名:
大面積電容耦合射頻電漿源模組技術:Technologies of LArge Area Very High Frequency Capacitively Coupled Plasma Source
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁99-106
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁107-116
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
277 2011.06[民100.06]
- 頁 次:
頁36-41
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題 名:
AZO薄膜濺鍍技術與應用:Magnetron Sputtering Technology for AZO Thin Film Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁30-36
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁49-54
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁110-117
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:2 2010.06[民99.06]
- 頁 次:
頁56-61
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題 名:
原子層沉積技術的沿革:The Development of Atomic Layer Deposition Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁51-57
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33 民94.08
- 頁 次:
頁169-186