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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:2=118 2000.10[民89.10]
- 頁 次:
頁39-46
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:2=118 2000.10[民89.10]
- 頁 次:
頁54-61
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題 名:
X光反射率在奈米半導體製程的新應用:X-Ray Reflectivity in Advanced Semiconductor Applications
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:3=131 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁52-57
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
83 1993.11[民82.11]
- 頁 次:
頁121-125
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題 名:
X-Ray Reflectivity Measurement of a Silicon Oxide Layer on Si Wafer:矽晶片上氧化層的X光反射率測量
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:1 1993.04[民82.04]
- 頁 次:
頁4-11
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題 名:
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題 名:
使用XR與XPS分析二氧化鉿薄膜退火之膜層結構變化:Layer Structure Analysis of Thin HfO₂ Film by XR and XPS Technique
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁4-12
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題 名:
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題 名:
X光繞射分析在半導體工業上的應用:X-ray Diffraction Utilized in the Semiconductor Industry
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:4 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁6-9
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題 名:
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題 名:
同步輻射掠角X光入射法於奈米薄膜上的分析應用:Grazing-Incidence X-Ray Analysis in Nano Films
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:4 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁10-14
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2023.03[民112.03]
- 頁 次:
頁22-29