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檢索結果筆數(8)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:10=103 2001.10[民90.10]
- 頁 次:
頁190-197
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:4=69 2001.04[民90.04]
- 頁 次:
頁118-128
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4 1996.05[民85.05]
- 頁 次:
頁45-61
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:9=86 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁142-154
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:7=216 2013.07[民102.07]
- 頁 次:
頁148-156
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題 名:
應用於45奈米以下電晶體之高介電氧化層:High-k Gate Dielectric for Sub-45 NM CMOS
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31 2012.12[民101.12]
- 頁 次:
頁14-25
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:2(A) 2010.11[民99.11]
- 頁 次:
頁11-21
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:7=156 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁176-189