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題 名:
Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching:金屬蝕刻時電漿充電損害效應的探討
- 作者:
- 書刊名:
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
- 卷 期:
22:3 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁416-424
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:2 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁205-216
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:1 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁383-393
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2=143 2005.02[民94.02]
- 頁 次:
頁163-175
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2007.07[民96.07]
- 頁 次:
頁32-41