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利用反應性直流磁控濺鍍法以Nb與NbOₓ靶材為起始材料沉積之Nb₂O₅薄膜特性研究:Properties of Nb₂O₅ Films Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering from Nb and NbOₓ as Starting Materials
唐謙仁 吳俊賢 江政忠 周青宏 Tang, Chien-jen; Wu, Chun-hsien; Jaing, Cheng-chung; Chou, Ching-hung;
真空科技
32:3 2019.09[民108.09]
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TCI引用統計